氣體中水分的測定方法：

氣源是僅次于電源的一種動力源，氣源同時還是--種重要的工藝介質(zhì)，這種雙重身份使氣體在工業(yè)基礎(chǔ)中充當了重要的角色。氣體的生產(chǎn)和使用都要考慮到水分的影響。水有時也被認為是一種“萬能溶劑"，這是由于它的*的物理和化學性質(zhì)決定的。各個領(lǐng)域的研究及應用中都涉及到水分的分析，微電子工業(yè)、石油、化工領(lǐng)域尤為突出。超高純度氣體對于半導體集成電路中所要求的越來越小的幾何特征具有極其重要的作用。經(jīng)證實，氣體中只要有十億分之幾的水分就可在硅片上導致瑕疵。

工業(yè)生產(chǎn)氣體中水分不同于其他氣體雜質(zhì)(0、N、CH、CO，等)，水分的存留與氫鍵有關(guān)，氫鍵比其他作用的范德華力和偶極矩力表現(xiàn)出更強的吸引力，因此水分被固體表面吸附就很難除去。一般用長時間吹掃的方法除去氣體中的水分，即目前氣體中水分含量的指標。因此，在上述領(lǐng)域中，一般都需要對微量水分加以監(jiān)測。水分的測定分析方法可分為物理方法和化學方法兩大類，如:光腔衰蕩光譜法、電解法、露點法、卡爾費休庫侖法、重量法、碳化鈣法等。